台湾港建科技推出HDE110S型内层双面曝光机

在5月12~14日举行的苏州电路板展览会上，台湾港建科技(苏州)有限公司第一次展出了HDE110S型内层双面曝光机。据现场工作人员介绍，该设备采用内层板用两面同时曝光装置，可在精度与速度上满足客户需求。

在速度方面，该款曝光机最高速度可以达到5枚/分，可以对应的最大面板尺寸为30*24inches。此外，机器本身采用新的影像处理系统，可实现客户对于高对位精度的需求，而楔形真空贴合方式则实现了稳定的曝光。目前该机器已经在瀚宇博德等客户工厂中运转。

台湾港建以专业服务为导向，秉持热忱精神服务业界，提供最先进的技术资源，专业代理印制电路板等设备，由于产品线的完整，加上专业的经验与技术，台湾港建更提供整厂输出生产线的服务。